荷蘭晶片設備製造商艾司摩爾(ASML)表示，深紫外線(DUV)光刻機產品在中國的銷售去年創下新高後，預計因美國和荷蘭新出口限制措施，今年公司對華銷售將減少約10%至15%。
艾司摩爾財務總監Roger Dassen預計，今年將無法從荷蘭政府獲得許可，向中國出口NXT:2000i及後續先進浸沒式光刻系統。此外，由於美國10月實施的直接限制措施，預計有少數工廠無法獲得較舊的NXT:1970i和NXT:1980i浸沒式工具的中國出口許可證。但他仍預計，中國對舊設備的需求將保持非常非常穩定
這是ASML首次公開確認美國規則將適用於其DUV系列中的低檔1970i工具。
