2024-03-25 00:00

研5納米晶片技術 華為申專利

外電報道，華為與內地晶片設備製造商深圳市新凱來技術，正就一項先進半導體的製造方法，向國家知識產權局申請專利。儘管該項生產方法據報屬較低技術，卻有效生產出5納米先進晶片，有望令中國成功突破美國的先進晶片技術圍堵，把其晶片生產技術由現時最高端只能生產出7納米晶片，升級至較高一級的5納米晶片。 意味縮差距 減依賴EUV光刻機 換言之，與全球頂尖晶片生產商所生產的3納米商用晶片比較，中國的差距可望由現時的落後兩代，收窄至僅落後一代。 華為與新凱來所提交的專利文件顯示，兩間公司正在開發涉及自對準四重成像技術（SAQP）的專利。SAQP透過在矽晶圓上多次蝕刻線路，從而提高晶體管密度。有關技術意味中國或可在 ...

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