彭博社引述知情人士報道，指美國、日本和荷蘭達成協議，同意共同限制向中國出口部分先進晶片製造設備。
報道指，美日荷三方代表在華盛頓完成談判，將美國去年10月採取的一些出口管制措施，擴至涵蓋日本和荷蘭的公司。消息稱，談判涉及一套新措施，以規範可供應予中國企業的產品。而由於日本和荷蘭要完成相關法律安排，實際實施日期或要數個月時間。
報道說，荷蘭將擴大對光刻機巨頭艾司摩爾(ASML)的限制，至少防止其出售EUV(極紫外光微影技術)設備給中國，該設備對生產部分類型的先進晶片至關重要。日本光學儀器製造巨頭尼康(Nikon)也將面臨類似限制。
